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  • CRF plasma 等離子清洗機

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    常壓等離子處理機

    CRF-APO-RP1020-D

    可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產品和處理環(huán)境;

    可ln-Line式安裝于客戶設備產線中,減少客戶投入成本;

    使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

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    設備詳細數據
           等離子清洗設備普遍用于等離子清理、蝕刻、表層的鍍膜、等離子灰化對材料表層改性等。經等離子處理后,能提升材料表層的濕潤性,使多種多樣材料都能開展涂覆、表層的鍍膜等實際操作,提高粘結力和鍵合能力,另外還可以除去有機化學污染物、油污和油脂。用等離子體對材料開展表層改性,接枝層會與表層分子結構中間產生化學鍵,使其具備優(yōu)良的使用性能。

           等離子清洗設備采用高精密的數控加工技術,具備高精密的全自動清洗機械裝置,時間控制度高;等離子體的恰當清理不會對其表層造成損害,產品的工藝性能獲得確保;它是一種綠色環(huán)保的清洗加工工藝,不會造成環(huán)境污染,防止了人為失誤的危害,清理表層不會受到二次污染。

    深圳誠峰智造等離子清洗機

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