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  • CRF plasma 等離子清洗機(jī)

    支持材料 測試、提供設(shè)備 試機(jī)

    20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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    AP等離子電源

    CRF-APO-R&D-RXX

    常壓等離子表面處理機(jī)可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

    設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;

    可In-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

    使用壽命長,保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制。

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    設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

    名稱 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
    等離子電源型號 CRF-APO-R&D-RXX
    旋轉(zhuǎn)噴式等離子噴槍型號 旋噴式:RXXOption:20mm-80mm
    電源 220V/AC,50/60Hz
    功率 1000W/25KHz(Option
    功率因素 0.8
    處理高度 5-15mm
    處理寬幅 旋噴式:20-80mmOption
    內(nèi)部控制模式
    數(shù)字控制
    外部控制模式
    啟停I/O
    工作氣體
    Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
    電源重量
    8kg

    應(yīng)用范圍

          等離子體清洗儀清洗機(jī)主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

          常壓等離子表面處理機(jī)的等離子體與物質(zhì)表層的反應(yīng)關(guān)鍵有二種,一種是由自由基造成的化學(xué)變化,另一種是由等離子體造成物理的反應(yīng)。

          1、化學(xué)變化(Chemical reaction):

          一般用以化學(xué)反應(yīng)的氣體有氫(H2)、氧(O2)、四氟化碳?xì)怏w(CF4)等,這種氣體在常壓等離子表面處理機(jī)等離子中反應(yīng)作為高活性的自由基,并與材料表層進(jìn)一步產(chǎn)生反應(yīng)。它的作用機(jī)制主要是運(yùn)用等離子體中的自由基與材料表層發(fā)生化學(xué)變化,當(dāng)工作壓力很大時(shí),自由基活性高運(yùn)動(dòng)激烈,因而要想使化學(xué)變化占主導(dǎo)性,需要操縱很大的工作壓力才可以開展近距的反應(yīng)。

          2、物理反應(yīng)(Physical reaction)

          運(yùn)用等離子體中的離子作純物理學(xué)撞擊,等離子體清洗儀主要是將化學(xué)物質(zhì)表層的分子或粘附化學(xué)物質(zhì)表層的分子擊掉,由于離子在工作壓力較低時(shí),其均值自由基比較輕長,具備一定的動(dòng)能累積,因而,在物理學(xué)撞擊中,離子的動(dòng)能越高,所撞擊的分子越多,若想以物理反應(yīng)為主導(dǎo),則需要較低工作壓力下開展反映,使實(shí)際清洗效果更強(qiáng)。等離子清洗機(jī)的原理,關(guān)鍵借助等離子中活性顆粒物的“活性功效”來做到除去污垢的目地。等離子體清洗一般包含以下過程:將無機(jī)氣體激起成為等離子態(tài);氣相物質(zhì)吸咐到固體表層;將吸咐官能團(tuán)與固體表層分子反應(yīng)轉(zhuǎn)化成產(chǎn)物分子;將產(chǎn)物分子結(jié)構(gòu)解析成氣相;反應(yīng)殘余物擺脫表層。等離子體清洗儀技術(shù)的較大特性是,不用區(qū)分需要待清洗目標(biāo)的種類,對金屬材料、半導(dǎo)體材料、金屬氧化物和大部分纖維材料,如聚丙稀、聚酯、聚酰亞胺膜、聚氯乙烷、環(huán)氧樹脂,乃至聚四氟乙烯等,都可以處理獲得相應(yīng)的效果,能夠開展總體、局部及繁雜構(gòu)造的清洗。

    等離子清洗機(jī)在電子工業(yè)的使用情況
      等離子清洗機(jī),也叫做等離子表面處理儀,是全新的高科技儀器,它利用活性組分的性質(zhì)對樣品表面進(jìn)行處理處理,達(dá)到清潔的目的,除了具有清潔的作用外,還能夠進(jìn)行活化和刻蝕等,廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域,下面給大家舉個(gè)例子:在電子工業(yè)清洗中的干法清洗,過程中需要真空泵制造一定的真空條件滿足清洗所需。下面來看看等離子清洗機(jī)的作業(yè)流程及注意事項(xiàng)。
      等離子清洗所需要的等離子體主要通過特定的氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生,像低壓氣體輝光等離子體。簡單地說,等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行(一般需保持在100Pa左右),所以需要真空泵進(jìn)行抽真空作業(yè)。
    其主要過程包括:先將需要清洗的工件送入真空室固定,啟動(dòng)真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著向真空室引入等離子清洗用的氣體(根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,選用的氣體也不同,如氧氣、氫氣、氬氣、氮?dú)獾?,并將壓力保持在100Pa左右;在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電使其發(fā)生離子化,產(chǎn)生等離子體;在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋被清洗工件后,開始清洗作業(yè),清洗過程會(huì)持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

    下面具體介紹下使用等離子清洗機(jī)要注意什么。 
    1、在開啟等離子清洗機(jī)之前,要做好各種準(zhǔn)備工作,首先要對操作的工作人員進(jìn)行技術(shù)方面的培訓(xùn),讓他們能夠熟練掌握操作的程序,嚴(yán)格按照操作要求進(jìn)行使用。 
    2、在正式使用等離子清洗機(jī)之前,要對它運(yùn)行時(shí)的參數(shù)進(jìn)行正確的設(shè)置,并且要按照儀器的使用說明書去認(rèn)真的執(zhí)行操作,不能隨意地使用。 
    3、要保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置,這樣才能保證等離子清洗機(jī)正常的開啟,要不然會(huì)導(dǎo)致開啟困難或者是開啟異常等。 
    4、如果對一次風(fēng)管沒有通風(fēng)的情況下,要保證等離子體的發(fā)生器的運(yùn)行時(shí)間在規(guī)定的時(shí)間內(nèi),不能大于設(shè)備說明書上要求的時(shí)間,要不然會(huì)把燃燒器破壞掉,從而造成很多不必要的損失。
    5、要定期進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)。在對等離子清洗機(jī)進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)
    的時(shí)候,要先把設(shè)備的電源關(guān)閉,待斷電后才能進(jìn)行相應(yīng)的操作,一定不能帶電操作,以防發(fā)生意外。

    AP等離子電源

    深圳誠峰智造等離子清洗機(jī)

    500強(qiáng)企業(yè)長期選擇品牌

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    選擇我們的理由

    20年自主研發(fā)經(jīng)驗(yàn) 500強(qiáng)企業(yè)案例 多項(xiàng)技術(shù)專利認(rèn)證
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    • 專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)

      擁有多名從業(yè)十多年的組裝工程師

    • 先進(jìn)的設(shè)備

      認(rèn)真對待每一次設(shè)備試驗(yàn)

    • 嚴(yán)格的質(zhì)量控制

      設(shè)備出廠前連續(xù)24小時(shí)運(yùn)行調(diào)試

    • 完善的服務(wù)體系

      集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

    • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

      專注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)

    • 可特殊定制設(shè)備

      完全按照客戶需求制作設(shè)備

    多項(xiàng)專利證書,廠家實(shí)力認(rèn)證

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