增加功率低溫等離子體制樣表面的-C-O-C數(shù)量增加:
        隨著放電功率的增大，制樣表面的接觸角隨著放電功率的增大而增大。隨著處理時間的增加，氧化層厚度增加，含o官能團的極性增強。低溫等離子體處理制樣后，制樣的親水隨低溫等離子體放電功率的增大而增加;低溫等離子體處理制樣后，制樣的親水隨著低溫等離子體放電功率的增大而減少。這是因為低溫等離子體處理技術等離子體處理制樣后，增加低溫等離子體放電功率會促進低溫等離子體內部的非活潑性粒子轉化為能量較高的易于參與反應的活潑性粒子，有利于低溫等離子處理機與制樣表面的反應，使制樣表面的氧元素含量升高，極性含氧官能團數(shù)量增多，親水升高。

       隨著功率的進一步增加，活性粒子從電場中獲得的能量增高，粒子間相互碰撞的幾率就變大，導致粒子能量損失，使得活性粒子與制樣表面的分子作用的幅度減弱，從而導致潤濕性的相對下降，親水降低。這是因為隨著處理時間的增加，制樣表面引人的極性含氧官能團數(shù)量增多，表面極性增強。低溫等離子體處理后，制樣表面的-C-O-C數(shù)量增加，但隨著低溫等離子體處理時間的增加，表面的-C-O-C數(shù)量逐漸減少，這是因為處理時間增加后，氧化能力增強，氧化層增厚，制樣表面引人的-C-O-C被進一步氧化成-C=O造成的。