相對(duì)于傳統(tǒng)的有機(jī)溶液濕式清潔，誠(chéng)峰智造解說(shuō)式等離子設(shè)備具備幾大優(yōu)勢(shì)，讓您對(duì)等離子設(shè)備更加了解。
等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊情況下形成的物質(zhì)。等離子清洗、腐蝕等離子形成的裝置是將兩個(gè)電極放入密封容器中形成電磁場(chǎng)，通過(guò)真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來(lái)越薄，分子問(wèn)距和分子或離子之間的白色運(yùn)動(dòng)距離也越來(lái)越長(zhǎng)。在磁場(chǎng)的作用下，碰撞形成等離子體，并產(chǎn)生光輝。等離子設(shè)備在電磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)，并轟擊加工處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清潔、腐蝕的效果。
相對(duì)于傳統(tǒng)的選用有機(jī)溶液的濕式清潔，等離子設(shè)備具備以下優(yōu)點(diǎn)：

1.清潔對(duì)象經(jīng)等離子清洗后即干，無(wú)需再次干燥加工處理即可送到下一道工序?？商岣呷凯h(huán)節(jié)環(huán)節(jié)的加工處理效率；
2.選用無(wú)線電波范圍的高頻輻射不同于直射光線，例如激光。由于方向性不好，等離子體可以深入物體的微孔和凹陷，實(shí)現(xiàn)清潔工作，因此不需要考慮清潔物體的形狀；
3.等離子設(shè)備需要保持一般在100帕的真空度，這種清潔狀態(tài)更能實(shí)現(xiàn)。所以該裝置的設(shè)備成本不高，再加上清潔過(guò)程不需要使用價(jià)格較高的有機(jī)溶液，使整體成本低于傳統(tǒng)的濕式清潔工藝；
4.等離子設(shè)備能夠避免有機(jī)溶液對(duì)身體的危害，另外也杜絕了濕式清潔時(shí)容易清潔對(duì)象的問(wèn)題。
5.避免出現(xiàn)使用ODS有危害有機(jī)溶液，如工氯乙烷，這種清理后就不用行成有害物質(zhì)，清理方法屬于環(huán)保綠色清理方法。這種的環(huán)境問(wèn)題在全球?qū)Νh(huán)境的高度關(guān)注中愈加顯示其重要性！
6.等離子設(shè)備不分加工和處理對(duì)象，可對(duì)各種材料進(jìn)行加工處理，不論是金屬材料、半導(dǎo)體、氧化物或聚丙烯、PVC、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高分子材料；
7.選擇等離子清洗，避免出現(xiàn)清洗劑的物流運(yùn)輸、儲(chǔ)存和釋放，使生產(chǎn)場(chǎng)所更能保持清潔；
8.在實(shí)現(xiàn)清潔去污的另外，還可改進(jìn)材質(zhì)無(wú)身的衣面性能。例如改善表面的潤(rùn)濕性、良好膜的粘附性等，這在很多應(yīng)用中非常重要。
9.利用等離子設(shè)備清洗，可大大提高清潔效率。在短短幾分鐘內(nèi)就可以實(shí)現(xiàn)全部清潔環(huán)節(jié)，具備產(chǎn)出率高的特征；
      綜上9點(diǎn)等離子設(shè)備在工業(yè)的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，國(guó)內(nèi)外用戶對(duì)等離子設(shè)備的要求也越來(lái)越高。高質(zhì)量的產(chǎn)品還需要專業(yè)的技術(shù)支持和維護(hù)。