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    講述CRFplasma設備技術應用在提升材料的絕緣性能的背景

    講述CRFplasma設備技術應用在提升材料的絕緣性能的背景:
           目前已經在國家(際)間開展的GIL項目中,通常選用降低(低)運行電壓以提高絕緣裕度的方法,直流電±500kV絕緣金屬封閉電力開關在阿南換流站長期性減壓在±250kV,施耐德企業選用550kVGIS、八百kVGIS構成的直流電GIS,達到±500kVGIS長周期工作。用較高的絕熱余量保證直流電氣體絕緣設備的安(全)運行,不但使設備體積增大,而且經濟效益較差,不利于GIL大規模推廣。CRFplasma設備也因此有它存在的必要。

           GIL的絕緣氣體絕緣電纜(sf6氣體或sf6氣體選用N2混合氣等。與傳統的架空線路和電力電纜相比,GIL具有輸送容量大、電磁輻射低、傳輸損耗小、節省空間等諸多優點。在很多方面需要用到CRFplasma設備。
           隨著西電東送“大氣污染防治計劃”等一系列特高壓重(點)工程的開工建設,對遠距離的輸電設備提出了更高的要求,而傳統的架空輸電線路在垂直落差高度大、跨越江河等地理環境惡劣及地質條件復雜的情況下不僅無法施工建設且難以長期性安(全)穩定運行,GIL因受氣象、地質條件制約小,安裝布置靈活,在工程建設中具有重要的意義。
            在DCGIL中,腔體內的復合絕緣子與氣體界面之間存在表面電荷積狀況。由于DC電壓下電場方向保持不變,表面電荷難以消散,大量積累的電荷會導致復合絕緣子附近的電場畸變,導致復合絕緣子放電,甚至沿表面閃絡,嚴重威脅DCGIL設備的安全(全)穩定運行,因此有CRFplasma設備解決這一問題。

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